精密研磨拋光的質(zhì)量是影響氮化硅軸承球性能和使用壽命的重要因素。

化學(xué)機(jī)械拋光：

化學(xué)機(jī)械拋光具有加工效率高、表面粗糙度低、加工劣化層小等技術(shù)特點(diǎn)。多用于各種功能陶瓷和工程陶瓷的表面精加工。在浮在液體介質(zhì)中的納米級軟拋光顆粒在拋光顆粒與工件的接觸點(diǎn)與相應(yīng)的拋光液摩擦，產(chǎn)生高溫高壓。在很短的時間內(nèi)。固相反應(yīng)軟化材料的表面。通過工件和拋光盤之間的機(jī)械摩擦，反應(yīng)產(chǎn)物以 0.1 nm 級別的小單位被去除，從而產(chǎn)生非常光滑的表面。

在選擇磨料時，一定要注意不要選擇比被加工材料硬的磨料。 這是因?yàn)楫?dāng)硬質(zhì)磨料起作用時，其機(jī)械拋光起主導(dǎo)作用，但會增加工件表面缺陷。 如今，工業(yè)上越來越多的氧化鈰（CeO2）磨料用于氮化硅陶瓷球的化學(xué)機(jī)械拋光。 一是它可以直接與Si3N4發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，形成SiO2層。 另一個是它的硬度接近于SiO2。 由于硬度明顯低于Si3N4，因此幾乎不會對氮化硅球造成劃痕等損傷。